| 发明名称 |
用于原子层沉积之加热灯;LAMP HEATER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION |
| 摘要 |
本发明描述用于在基座组件上处理复数个半导体晶圆而使整个基座组件上温度均匀一致的设备及方法。在区域中配置并控制复数个线形灯以提供均匀加热作用。 |
| 申请公布号 |
TW201502314 |
申请公布日期 |
2015.01.16 |
| 申请号 |
TW103112329 |
申请日期 |
2014.04.02 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
凯尔卡尤梅西Ｍ;贝拉卡罗;拉马纳桑卡西科;邝光祖;尤都史凯约瑟夫 |
| 分类号 |
C23C16/52(2006.01);F27D11/00(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/52(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财李世章 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
