用于定向自组装嵌段共聚物之高度抗蚀刻聚合物嵌段;HIGHLY ETCH-RESISTANT POLYMER BLOCK FOR USE IN BLOCK COPOLYMERS FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY

摘要

本发明提供用于定向自组装(DSA)图案化技术的组成物。亦提供定向自组装方法，其中将包含嵌段共聚物的DSA组成物涂覆于基板上且接着自组装形成所要图案。嵌段共聚物包括至少两种具有不同蚀刻速率的嵌段，以便在蚀刻期间选择性地移除一种嵌段(例如聚甲基丙烯酸甲酯)。由于蚀刻较慢之嵌段(例如聚苯乙烯)经添加剂改质以进一步减缓彼嵌段之蚀刻速率，因此留下更多的蚀刻缓慢嵌段，从而使图案完全转印至下伏层上。