| 摘要 |
本发明提供一种微构造体用树脂构造体之制造方法，其系包含下列(A)步骤~(F)步骤：(A)使用光图型形成性膜形成用组成物，涂布于基板上作为光图型形成性牺牲膜之步骤，该光图型形成性膜形成用组成物含有：(1)酚性羟基之一部分经可藉酸而脱离之保护基保护之高分子化合物、(2)光酸产生剂、(3)环氧化合物、(4)有机溶剂、(B)加热上述基板之步骤、(C)使用第1高能量线，沿着图型布线影像对上述牺牲膜进行照射之步骤、(D)以藉由硷性显像液进行之显像而形成牺牲膜图型之步骤、(E)对所得牺牲膜图型进行作为第2高能量线之紫外线的照射之步骤、(F)在80~250℃加热基板之步骤，其中，(C)之第1高能量线之照射量为250mJ/cm 2 以下，(F)步骤后之基板与牺牲膜之侧壁角度保持为80°以上且90°以下。;藉由本发明之制造方法，可制备耐热性高之牺牲层图型。 |
