发明名称 用于压纹微影之压纹材料;EMBOSSING MATERIAL FOR EMBOSSING LITHOGRAPHY
摘要 本发明系关于一种可硬化且用于压纹微影之压纹材料,其系由以下之混合物组成:至少一种可聚合主要组分,及至少一种次要组分。;此外,本发明系关于一种如技术方案中任一项之压纹材料于初步形成压纹形式(4、4’、4”、4'''、4 IV )之用途。;In addition, this invention relates to a use of an embossing material according to one of the preceding claims for the primary forming of an embossing form (4, 4’, 4”, 4''', 4 IV ). ;In this regard, see Figure I.
申请公布号 TW201502206 申请公布日期 2015.01.16
申请号 TW103115076 申请日期 2014.04.25
申请人 EV集团E塔那有限公司 发明人 乔依琪 幕斯特法
分类号 C08L83/04(2006.01);C08L71/00(2006.01);C08L63/00(2006.01);C08K5/01(2006.01);C08K5/09(2006.01);C08K5/13(2006.01);C08K5/15(2006.01);B29C43/32(2006.01);H01L21/302(2006.01) 主分类号 C08L83/04(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 奥地利