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发明名称
超音波清洗装置及清洗方法
摘要
本发明关于一种清洗方法,是使用在底面具有倾斜之清洗槽来进行被清洗物的超音波清洗的清洗方法,其特征在于:使用复数个前述清洗槽,并使该复数个清洗槽的底面的倾斜方向在每个相邻的清洗槽改变,来清洗前述被清洗物。藉此,可解决在藉由超音波清洗所实行的晶圆清洗中的晶圆清洗不均。
申请公布号
TW201501824
申请公布日期
2015.01.16
申请号
TW103113720
申请日期
2014.04.15
申请人
信越半导体股份有限公司
发明人
椛泽均;阿部达夫
分类号
B08B3/12(2006.01);H01L21/304(2006.01)
主分类号
B08B3/12(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财李世章
主权项
地址
日本
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