发明名称 Verfahren zur Herstellung einer dualen Szintillatoranordnung
摘要 <p>Ein Verfahren zur Herstellung einer dualen Szintillatoranordnung weist die folgenden Schritte auf: Verbinden einer ersten und einer zweiten Szintillatorstabanordnung mittels einer Harzzwischenschicht so, dass beide Szintillatorstäbe in Laminationsrichtung ausgerichtet sind, wobei die Szintillatorstabanordnungen unterschiedliche Empfindlichkeitsverteilungen in Bezug auf die Röntgenstrahlenergieerfassung sowie mehrere parallele Nuten mit identischen Zwischenräumen aufweisen, Schneiden der zu einem Stück verbundenen Stabanordnung in einer die Szintillatorstäbe kreuzenden Richtung und Beschichten von einer der Schnittflächen eines jeden Teils der zusammengefügten Stabanordnung mit einem Harz.</p>
申请公布号 DE112013001689(T5) 申请公布日期 2015.01.15
申请号 DE20131101689T 申请日期 2013.03.07
申请人 HITACHI METALS LTD. 发明人 NITTA, HIDEO,;SHIGEKAWA, AKIRA,;SHIOTA, SATOSHI,;NAGATOMO, HIROYUKI,
分类号 G21K4/00;G01T1/20 主分类号 G21K4/00
代理机构 代理人
主权项
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