| 摘要 |
Ein Struktur-Herstellungsverfahren weist das Laminieren einer ersten Dünnschicht auf einem Basismaterial, das gezielte Bestrahlen der ersten Dünnschicht mit einer Energiestrahlung in Abhängigkeit von einer Stelle einer Oberfläche der ersten Dünnschicht auf dem Basismaterial, um ein verborgenes Bild eines Musters auf der ersten Dünnschicht auszubilden, das Laminieren einer zweiten Dünnschicht auf der Oberfläche der ersten Dünnschicht, sowie zweiten Dünnschicht und das das Zuführen eines Entwicklers zur Entfernen eines gezielt zu entfernenden Teils der ersten Dünnschicht auf, der zusammen mit der zweiten Dünnschicht gezielt entfernt werden soll, um dadurch das Muster zu entwickeln. |
