发明名称 Isolierschicht für eine elektronische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Isolierschicht für eine elektronische Vorrichtung
摘要 Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer Isolierschicht für eine elektronische Vorrichtung, die die Eigenschaften einer elektronischen Vorrichtung verbessern kann. Das Mittel zur Lösung der Aufgabe ist eine Isolierschicht für eine elektronische Vorrichtung, umfassend eine erste Isolierschicht, die aus einem ersten Isolierschichtmaterial gebildet ist, und eine zweite Isolierschicht, die auf der ersten Isolierschicht aus einem zweiten Isolierschichtmaterial gebildet ist, wobei das erste Isolierschichtmaterial ein Isolierschichtmaterial ist, das ein lichtempfindliches Harzmaterial (A), ein Wolfram(V)-Alkoxid (B) und eine basische Verbindung (C) umfasst, das zweite Isolierschichtmaterial ein Isolierschichtmaterial ist, das eine Polymerverbindung (D) umfasst, die eine Wiederholungseinheit enthält, die eine cyclische Etherstruktur und eine Wiederholungseinheit mit einer organischen Gruppe, die durch Einwirkung einer Säure eine Phenolhydroxylgruppe bilden kann, enthält.
申请公布号 DE112013001236(T5) 申请公布日期 2015.01.15
申请号 DE20131101236T 申请日期 2013.02.26
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 YAHAGI, ISAO,
分类号 H01L21/312;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/50;H05B33/22 主分类号 H01L21/312
代理机构 代理人
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