发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Entladung in einem Plasmaprozess
摘要 Überwachungsvorrichtung (7) zur Überwachung einer Entladung in einem Plasmaprozess, insbesondere zwischen Elektroden (11, 12) einer Kathodenzerstäubungsanordnung (13), dem ein Leistungsgenerator (14) mit einem sich periodisch verändernden Ausgangssignal (19) des Leistungsgenerators Leistung zuführt, wobei die Überwachungsvorrichtung (7) aufweist: a. eine Signalerfassungsvorrichtung (8) zum Erfassen zumindest eines ersten Signalverlaufs (2) zumindest eines Plasmaversorgungssignals (19) innerhalb zumindest eines ersten Zeitintervalls innerhalb zumindest einer Periode des Plasmaversorgungssignals (19), b. eine Signalerfassungsvorrichtung (8) zum Erfassen zumindest eines zweiten Signalverlaufs (6) zumindest eines Plasmaversorgungssignals (19) innerhalb zumindest eines zweiten Zeitintervalls, das an der dem ersten Zeitintervall entsprechenden Stelle in zumindest einer weiteren Periode des Plasmaversorgungssignals (19) liegt, und c. eine Erkennungssignalgenerierungsvorrichtung (17) ausgelegt zur Generierung eines Erkennungssignals (5) bei Abweichung des zweiten Signalverlaufs um mindestens einen Abstand vom ersten Signalverlauf, wobei die Erkennungssignalgenerierungsvorrichtung eine Abstandsermittlungsvorrichtung aufweist, die ausgelegt ist, den Abstand mittels Zusammenführen einer Mindestzeitdifferenz (22) und Mindestsignalamplitudendifferenz (21) zu ermitteln.
申请公布号 DE102013110883(B3) 申请公布日期 2015.01.15
申请号 DE201310110883 申请日期 2013.10.01
申请人 TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG 发明人 LEYPOLD, DANIEL;RICHTER, ULRICH;WUNN, FABIAN
分类号 H05H1/46 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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