发明名称 |
一种耐指纹型高抗刮光学保护膜 |
摘要 |
本实用新型公开了一种耐指纹型高抗刮光学保护膜,它包括精密保护膜层、高抗刮层、光学基材层、胶粘剂层和隔离膜层,所述光学基材层上表面涂有高抗刮层,此高抗刮层表面具有多个涂层凸起结构,所述涂层凸起结构中含有耐指纹成分和纳米颗粒,所述涂层凸起结构表面复合一精密保护膜层,所述光学基材层下表面涂有胶粘剂层,所述胶粘剂层表面复合隔离膜层。本实用新型凸起结构使保护膜使用表面形成凹凸不平的表面,从而起到耐指纹的作用,而涂层凸起结构中包含耐指纹成分和纳米颗粒,进一步提高了产品的耐指纹性,有效抑制指纹和汗渍。因此,本实用新型具备硬度高、耐指纹、色彩还原效果好,不脱胶等优点,市场前景广阔,具备极大的市场价值。 |
申请公布号 |
CN204095229U |
申请公布日期 |
2015.01.14 |
申请号 |
CN201420403234.6 |
申请日期 |
2014.07.22 |
申请人 |
隆昌羽玺新材料科技有限公司 |
发明人 |
张建军;程国虎;张宏;刘宝林;王亮亮;许显成 |
分类号 |
B32B27/06(2006.01)I;B32B27/14(2006.01)I;B32B27/28(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;B32B7/12(2006.01)I |
主分类号 |
B32B27/06(2006.01)I |
代理机构 |
泰和泰律师事务所 51219 |
代理人 |
魏常巍;温黎娟 |
主权项 |
一种耐指纹型高抗刮光学保护膜,其特征在于:包括精密保护膜层(5)、高抗刮层(2)、光学基材层(1)、胶粘剂层(3)和隔离膜层(6),所述光学基材层(1)上表面涂有高抗刮层(2),此高抗刮层(2)表面具有多个涂层凸起结构(4),所述涂层凸起结构(4)表面复合一精密保护膜层(5),所述光学基材层(1)下表面涂有胶粘剂层(3),所述胶粘剂层(3)表面复合隔离膜层(6)。 |
地址 |
642150 四川省内江市隆昌县黄土坡工业园 |