发明名称 阳刻抗光组合物
摘要 一种阳刻抗光组合物,其可以在含水硷性介质中显影,此种组合物包含:(a)至少一种含有式Ⅲ结构单元酯基的均聚物或共聚物,$$ (Ⅲ),其中R1,R2 和R3 独立为氢或C1 一 6 烷基,(b)至少一种含式 Ⅱa 结构单元的含羧基共聚物,$$ (Ⅱa),其中R1,R2 和R3 独立为氢或C1 一 6 烷基,其中羧基含量为0.40至5.50莫耳/公斤,(c) 至少一种感光的重氮盐(diazonium)、 sulfosonium或碘或感光的磺酸酯,和(d) 一种有机溶剂。
申请公布号 TW321733 申请公布日期 1997.12.01
申请号 TW084106048 申请日期 1995.06.12
申请人 汽巴特用化学品控股公司 发明人 唐前;马丁.洛特
分类号 G03F7/39 主分类号 G03F7/39
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项
地址 瑞士