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经营范围
发明名称
阳刻抗光组合物
摘要
一种阳刻抗光组合物,其可以在含水硷性介质中显影,此种组合物包含:(a)至少一种含有式Ⅲ结构单元酯基的均聚物或共聚物,$$ (Ⅲ),其中R1,R2 和R3 独立为氢或C1 一 6 烷基,(b)至少一种含式 Ⅱa 结构单元的含羧基共聚物,$$ (Ⅱa),其中R1,R2 和R3 独立为氢或C1 一 6 烷基,其中羧基含量为0.40至5.50莫耳/公斤,(c) 至少一种感光的重氮盐(diazonium)、 sulfosonium或碘或感光的磺酸酯,和(d) 一种有机溶剂。
申请公布号
TW321733
申请公布日期
1997.12.01
申请号
TW084106048
申请日期
1995.06.12
申请人
汽巴特用化学品控股公司
发明人
唐前;马丁.洛特
分类号
G03F7/39
主分类号
G03F7/39
代理机构
代理人
林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项
地址
瑞士
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