| 发明名称 | 用于蚀刻铜与钼的金属蚀刻剂组合物及其用于蚀刻铜与钼的金属蚀刻方法 | ||
| 摘要 | 一种用于蚀刻铜与钼的金属蚀刻剂组合物，其包含过氧化氢及一种有机酸组分；该有机酸组分包含丁二酸及乙酸；其中，丁二酸与乙酸的重量比例范围为1：1.2～1：3。该金属蚀刻剂组合物在进行含有铜与钼的多层金属蚀刻时，能得到具有良好配线形状与均匀性的金属层，并有效避免底切现象产生。本发明还提供一种用于蚀刻铜与钼的金属蚀刻方法，其包括将如上所述的金属蚀刻剂组合物与一种多层金属薄膜接触，使该多层金属薄膜产生蚀刻，其中，该多层金属薄膜包括一个钼层及一个堆叠于该钼层上的铜层。 | ||
| 申请公布号 | CN104278274A | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
| 申请号 | CN201410321867.7 | 申请日期 | 2014.07.08 |
| 申请人 | 达兴材料股份有限公司 | 发明人 | 罗致远;吴光耀;黄若涵;廖怡颖;卢厚德 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 秦剑 |
| 主权项 | 一种用于蚀刻铜与钼的金属蚀刻剂组合物，其包含：过氧化氢；及一种有机酸组分，其包含：丁二酸及乙酸；其中，丁二酸与乙酸的重量比例范围为1：1.2～1：3。 | ||
| 地址 | 中国台湾台中市 | ||