| 发明名称 | 光学膜、偏光板及液晶显示装置 | ||
| 摘要 | 一种光学膜，其膜厚为15μm～45μm，在60℃、相对湿度90％下进行了48小时湿热处理的光学膜满足下述式(1)及式(2)，在60℃、相对湿度90％下进行了24小时处理的膜的尺寸变化率为±0.3％以下，且当应用于薄型的液晶显示装置时，可抑制显示面上产生圆形或椭圆状的光不均(Rth(440W、30％RH)是在25℃、相对湿度30％下所测定的波长440nm下的膜厚方向的延迟值，Rth(440W、80％RH)是在25℃、相对湿度80％下所测定的波长440nm下的膜厚方向的延迟值)。式(1)-20nm≤Rth(440W、30％RH)≤5nm；式(2)0nm≤Rth(440W、30％RH)-Rth(440W、80％RH)≤18nm。 | ||
| 申请公布号 | CN104285170A | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
| 申请号 | CN201380024776.0 | 申请日期 | 2013.05.01 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 久门义明;名仓正人;野口淳;久永和也;深川伸隆;内藤游;古川裕道 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 马雯雯;臧建明 |
| 主权项 | 一种光学膜，其特征在于：膜厚为15μm～45μm，在60℃、相对湿度90％下进行了48小时湿热处理的光学膜的Rth(440W、30％RH)、及Rth(440W、30％RH)‑Rth(440W、80％RH)满足下述式(1)及式(2)，在60℃、相对湿度90％下进行了24小时处理的膜的尺寸变化率为±0.3％以下。式(1)‑20nm≤Rth(440W、30％RH)≤5nm式(2)0nm≤Rth(440W、30％RH)‑Rth(440W、80％RH)≤18nm(此处，式(1)及式(2)中，Rth(440W、30％RH)表示在25℃、相对湿度30％下所测定的波长440nm下的膜厚方向的延迟值，Rth(440W、80％RH)表示在25℃、相对湿度80％下所测定的波长440nm下的膜厚方向的延迟值。) | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||