发明名称 修正触控信号的装置、系统以及其方法
摘要 本发明提供了一种修正触控信号的装置、系统以及其方法,所述方法包括:发射光束,以获得反射元件反射光束所产生的检测光束,从而产生检测信号分布图;根据检测信号分布图与临界值分布图以获得多个交会点、遮蔽区域以及遮蔽区域所对应的像素位置;依据检测信号分布图以及多个交会点以计算遮蔽区域所占有的第一面积;根据遮蔽区域所对应的第一面积以判断遮蔽区域是否发生过曝现象;以及若遮蔽区域发生过曝现象,则修正过曝的遮蔽区域以及遮蔽区域所对应的像素位置。本发明通过判断触控信号是否被过曝现象所影响,并据此对被过曝现象所影响的触控信号进行修正,从而减少触控信号的误差以及误判,同时提升光学触控的精确度。
申请公布号 CN104281332A 申请公布日期 2015.01.14
申请号 CN201310331684.9 申请日期 2013.08.01
申请人 纬创资通股份有限公司 发明人 甘伟国;陈裕彦;苏上钦
分类号 G06F3/042(2006.01)I 主分类号 G06F3/042(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 汤在彦
主权项 一种修正触控信号的装置,其特征在于,所述修正触控信号的装置包括:一发光单元,用以发射至少一光束;一反射元件,用以反射所述至少一光束;一感测单元,用以获得该反射元件反射所述至少一光束所产生的一检测光束,从而产生一检测信号分布图,其中该检测信号分布图表示一光学触控区域的多个像素位置及对应的多个信号亮度,且该反射元件配置于该光学触控区域的周边;以及一控制单元,耦接至该发光单元以及该感测单元,经配置以执行:根据该检测信号分布图与一临界值分布图以获得多个交会点、至少一遮蔽区域以及所述至少一遮蔽区域分别对应的像素位置,其中各遮蔽区域对应相邻的两个交会点;依据该检测信号分布图以及所述交会点以分别计算各遮蔽区域所占有的一第一面积;根据所述至少一遮蔽区域所对应的该第一面积以判断所述至少一遮蔽区域是否发生过曝现象;以及若所述至少一遮蔽区域发生过曝现象,则修正过曝的所述至少一遮蔽区域以及所述至少一遮蔽区域所对应的该像素位置。
地址 中国台湾新北市