| 发明名称 | 一种基于波导结构的新型光隔离器 | ||
| 摘要 | 本发明是一种基于光波导结构的新型光隔离器，其无需采用任何磁光材料，由衬底(1)和位于该衬底(1)之上的两部分波导层构成，其中：第一波导(2)为对波导层上通过第一次刻蚀形成的直波导进行第二次刻蚀时，保护一部分不被刻蚀而形成的有一段凸起的波导；第二波导(3)为二次刻蚀时不作保护而得到的普通直波导。本发明用以实现对某一特定波长的TE或TM偏振光进行隔离的功能，基于波导结构实现，与半导体工艺兼容，易于同其他光电子器件(如半导体激光器等)进行单片集成。本发明不依赖于特定的(例磁光)材料特性，因而可以在任意光波导材料上(例各种III-V族化合物半导体，硅基半导体，及SiO<sub>2</sub>等)实现。 | ||
| 申请公布号 | CN104280823A | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
| 申请号 | CN201410532649.8 | 申请日期 | 2014.10.09 |
| 申请人 | 华中科技大学 | 发明人 | 李洵;朱仲书 |
| 分类号 | G02B6/26(2006.01)I;G02B6/122(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人 | 王守仁 |
| 主权项 | 一种基于光波导结构的新型光隔离器，其特征是无需采用任何磁光材料，由衬底(1)和位于该衬底(1)之上的两部分波导层构成，其中：第一波导(2)为对波导层上通过第一次刻蚀形成的直波导进行第二次刻蚀时，保护一部分不被刻蚀而形成的有一段凸起的波导；第二波导(3)为二次刻蚀时不作保护而得到的普通直波导。 | ||
| 地址 | 430074 湖北省武汉市武昌珞喻路1037号华中科技大学 | ||