| 发明名称 | CMP研磨液及其制造方法、复合粒子的制造方法以及基体的研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明的CMP研磨液包含水及磨粒，磨粒含有复合粒子，所述复合粒子含有包含第1粒子的核心和设置于该核心上的第2粒子，第1粒子含有二氧化硅，第2粒子含有氢氧化铈，CMP研磨液的pH为9.5以下。 | ||
| 申请公布号 | CN103339219B | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
| 申请号 | CN201280006424.8 | 申请日期 | 2012.01.20 |
| 申请人 | 日立化成株式会社 | 发明人 | 南久贵;井上惠介;吉川知里;野村豊;岩野友洋 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I;B24B37/04(2012.01)I;H01L21/3105(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 杜娟 |
| 主权项 | 一种CMP研磨液，其包含水及磨粒，所述磨粒含有复合粒子，所述复合粒子具有包含第1粒子的核心和设置于所述核心上的第2粒子，所述第1粒子含有二氧化硅，所述第2粒子含有氢氧化铈，所述CMP研磨液的pH为9.5以下。 | ||
| 地址 | 日本国东京都千代田区丸之内一丁目9番2号 | ||