用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法

摘要

本发明是用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法，包括1）在基板上涂覆黑色矩阵材料；2）用半色调掩膜对材料进行曝光、显影、高温烘烤固化，形成四区域，第一~三区域形成具有高度差的凸字型黑色矩阵图案，并保留在基板上；3）在基板上的四区域上涂覆彩膜；4）对彩膜进行曝光、显影、固化，形成所需的彩膜图案，该图案位于所述的第一、第三、第四区域上，重复三次；5）所有的彩色膜层形成后溅度透明导电层ITO；6）在基板上涂覆一层透明绝缘材料层；7）对的基板全面进行一次曝光、显影、固化，形成所需要高度的PS层，做为支撑LCD两层基板之间Gap的共用柱子。优点：无需更改材料，提高了生产效率，减化了生产流程。

主权项

用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法，其特征是包括如下工艺步骤：     1）在玻璃基板上涂覆黑色矩阵材料；2）用半色调掩膜对此黑色矩阵材料进行一次曝光、显影、高温烘烤固化，形成第一、第二、第三、第四四个区域，其中第一、第三区域的黑色矩阵材料部分被剥离去、部分被保留在基板上，第二区域的黑色矩阵材料被完全保留在基板上，第四区域的黑色矩阵材料被完全剥离去；第一、第二、第三区域连接在一起，形成两边低中间高，具有高度差的凸字型黑色矩阵图案，该图案被保留在基板上；3）将保留在基板上的第一、第二、第三、第四区域上再涂覆第一层彩色膜层；     4）涂覆第一层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第一层彩膜形成所需要的第一彩膜图案，该图案位于所述的第一、第三、第四区域上；     5）在步骤4）所形成的第一层彩膜基板上的第一、第二、第三、第四区域上涂覆第二层彩色膜层；     6）对步骤5）涂覆第二层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第二层彩膜形成所需要的第二彩膜图案，该图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     7）在步骤6）所形成的第二层彩膜的基板上的第一、第二、第三、第四区域上涂覆第三层彩色膜层；     8）对步骤7）涂覆第三层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第三层彩膜形成所需要的第三彩膜图案，该图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     9）所有的彩色膜层形成后，在形成的所有彩膜图案和黑色矩阵上面溅度透明导电层ITO做为公共电极；     10）在步骤9）溅度过透明导电层ITO的基板上再涂覆一层透明绝缘材料层；     11）对步骤10）的基板全面进行一次曝光、显影、固化，形成所需要有高度的PS层，做为支撑LCD两层基板之间Gap 的共用柱子；12）完成彩色滤光片的制造。