发明名称 外覆纳米线透明导电涂层的电晕图案化
摘要 本发明涉及一种方法,包括:提供透明导电膜,所述透明导电膜包括:透明基板(14);复合层(18),所述复合层包括:导电层,所述导电层设置在所述透明基板(14)的主表面的至少一部分上并包括多个互连金属纳米线(12);和聚合物外覆层,所述聚合物外覆层设置在导电层的一部分上,以提供所述导电层的涂覆区域;以及使所述导电层的涂覆区域以图案形式暴露于电晕放电以提供以图案形式暴露的导电膜,所述导电膜包括(1)涂覆区域的具有第一电阻率的未暴露区域(122)和(2)具有第二电阻率的暴露区域(121);其中所述暴露区域的导电性小于所述未暴露区域的导电性,并且其中所述第二电阻率与所述第一电阻率的比值为至少1000:1。
申请公布号 CN104285312A 申请公布日期 2015.01.14
申请号 CN201380024839.2 申请日期 2013.05.02
申请人 3M创新有限公司 发明人 马克·J·佩莱里蒂;塞思·M·柯克;海厄森斯·L·莱丘加
分类号 H01L51/00(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;H01B1/22(2006.01)I;H01L51/10(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H05K9/00(2006.01)I;H01L51/44(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I 主分类号 H01L51/00(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 顾红霞;彭会
主权项 一种方法,包括:提供透明导电膜,所述透明导电膜包括:透明基板;复合层,所述复合层包括:导电层,所述导电层设置在所述透明基板的主表面的至少一部分上并包括多个互连金属纳米线;和聚合物外覆层,所述聚合物外覆层设置在所述导电层的一部分上,以提供所述导电层的涂覆区域;以及使所述导电层的涂覆区域以图案形式暴露于电晕放电以提供以图案形式暴露的导电膜,所述导电膜包括(1)涂覆区域的具有第一电阻率的未暴露区域和(2)具有第二电阻率的暴露区域;其中所述暴露区域的导电性小于所述未暴露区域的导电性,并且其中所述第二电阻率与所述第一电阻率的比值为至少1000:1。
地址 美国明尼苏达州