发明名称 光电式烟雾感测器用之光投射装置
摘要 一发光二极体1及一聚光透镜2予以设置在一光轴方向。在发光二极体1,一有一尖端透镜5之罩盖4予以附着至一主单元基座9之一侧,一发光二极体晶片6由一自罩盖4内之主体基座9所抽出之接合线8予以支承,及一反射器7置于发光二极体晶片6后面。关于发光二极体晶片6之一第一光源,反射器7向前所反射之光照射在尖端透镜5之位置予以设定为一虚拟第二光源10,并且聚光透镜2之焦点予以设定在第二光源10之位置或在其位置之附近。
申请公布号 TW392133 申请公布日期 2000.06.01
申请号 TW087108404 申请日期 1998.05.29
申请人 报知器股份有限公司 发明人 中村正毅;岛裕史;松熊秀成
分类号 G08B17/00 主分类号 G08B17/00
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室;宿希成 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种供光电烟雾感测器用之光投射装置,其中发出射束光进入一受监视之空间,并接收一被烟雾进入受监视之空间所衰减之射束光,藉以检测火焰,其中该装置包含一发光二极体及一聚光透镜,其予以设置在一光轴方向,并且该发光二极体包含:一主单元基座;一圆柱形罩盖,其予以附着至该主单元基座之尖端,并且其中一透镜予以整体配置;一发光二极体晶片,其置于罩盖内之预定位置;一接合线,一通过主单元基座之引线通过其与发光二极体晶片电连接;以及一反射器,其置于发光二极体晶片后面。2.如申请专利范围第1项之光投射装置,其中该发光二极体晶片予以使用作为第一光源,被反射器向前反射之光在罩盖之尖端照射在透镜之位置,予以设定为虚拟第二光源,及聚光透镜焦点位于该第二光源之位置。3.如申请专利范围第1项之光投射装置,其中该发光二极体晶片予以使用作为第一光源,被反射器向前反射之光在罩盖之尖端照射在透镜之位置,予以设定为虚拟第二光源,及聚光透镜焦点位于一在该第二光源附近之位置。4.如申请专利范围第1项之光投射装置,其中该发光二极体晶片予以使用作为第一光源,被反射器向前反射之光在罩盖之尖端照射在透镜之位置予以设定为虚拟第二光源,及聚光透镜焦点位于一自该第二光源分开之位置。5.如申请专利范围第1项之光投射装置,其中该聚光透镜之焦点位于第二光源与罩盖尖端之透镜顶点之间。6.如申请专利范围第1项之光投射装置,其中该聚光透镜之焦点位于第二光源及与发光二极体晶片电连接之接合线之弯曲部份尖端之位置之间。7.一种供如申请专利范围第1至6项中任一项之光电烟雾感测器用之光投射装置,其中该光电式烟雾感测器有一反射型烟雾检测结构,其中一烟雾感测器主单元有一光投射装置及一光接收装置,以及一供将光自光投射装置反射至光接收装置之反射器构件,予以配置为通过一预定受监视距离之受监视空间。8.如申请专利范围第1至6项中任一项之光投射装置,其中该发光二极体有一屏蔽构件,其形成一预定形状,供尖端透镜之开口,并且该屏蔽构件与尖端透镜紧密接触。图式简单说明:第一图为略图,例示一使用本发明之光投射装置之反射型烟雾感测器;第二图为略图,例示本发明之光投射装置之光学结构;第三图(A)、(B)为略图,例示使能量分布均匀化之本发明之光投射装置之光强度分布;第四图(A)-(D)为略图,例示在一聚光透镜之焦点之位置相对于一发光二极体向前移动之情形,所投射之影像;第五图(A)、(B)为略图,例示在第一图之反射型烟雾感测器之光轴偏差;第六图(A)、(B)为略图,例示所投射之影像相对于一反射器板之变化,该变化系由光轴偏差所导致;第七图(A)-(D)为略图,例示本发明之一种实施例,其中配置一屏蔽构件;第八图(A)、(B)为略图,例示在第一图之反射型烟雾感测器,由一障碍所产生之反射光;以及第九图为略图,例示使能量分布均匀化之先前技艺之光投射装置之结构。
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