| 发明名称 | 一种用于激光剥蚀-同位素稀释质谱法的气溶胶混合装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种用于激光剥蚀-同位素稀释质谱法的气溶胶混合装置，属于无机质谱与激光剥蚀联用原位分析技术领域。所述用于激光剥蚀-同位素稀释质谱法中的气溶胶混合装置包括混合仓以及与所述混合仓连通的入口管和出口管。利用本实用新型能够提高在线ID-LA-ICP-MS方法的准确度和精确度、提高混合气溶胶同位素比值测量的准确性、提高混合气溶胶同位素比值测量的精密度(1.5-2.5％)；同时，减少了信号灵敏度损失。 | ||
| 申请公布号 | CN204101355U | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
| 申请号 | CN201420406351.8 | 申请日期 | 2014.07.22 |
| 申请人 | 中国计量科学研究院 | 发明人 | 冯流星;王军 |
| 分类号 | G01N1/38(2006.01)I | 主分类号 | G01N1/38(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人 | 郭韫 |
| 主权项 | 一种用于激光剥蚀‑同位素稀释质谱法的气溶胶混合装置，其特征在于：所述用于激光剥蚀‑同位素稀释质谱法的气溶胶混合装置包括混合仓以及与所述混合仓连通的入口管和出口管。 | ||
| 地址 | 100013 北京市朝阳区北三环东路18号 | ||