一种金属预制层合金化设备及方法

摘要

本发明是一种金属预制层合金化设备及方法。本发明的金属预制层合金化设备，为真空热处理设备，包括有密闭容器，置于密闭容器内的等离子体及衬底加热装置，衬底和密闭容器内的另一导电极组成等离子体辉光的两个电极，密闭容器的侧壁设有抽真空通道及设有通入H2和Ar气的通道，且密闭容器内设有控温系统。本发明金属预制层的合金化处理方法是将通过溅射、蒸发、电沉积等方法制备的金属预制层在真空或惰性气体保护环境下，以较高温进行热退火处理使金属间充分化合为合金相并消除薄膜内应力，得到元素分布均匀的金属预制层的过程。本发明提供的等离子体辅助合金化工艺可实现低温下金属间的充分化合，提高硒化等后续处理效果和薄膜附着力，还可修饰改善表面。

主权项

一种金属预制层合金化设备，其特征在于为真空热处理设备，包括有密闭容器，置于密闭容器内的等离子体及衬底加热装置，衬底和密闭容器内的另一导电极组成等离子体辉光的两个电极，密闭容器的侧壁设有抽真空通道及设有通入H2和Ar气的通道，且密闭容器内设有控温系统。