发明名称 | 用于成像系统的曝光控制 | ||
摘要 | 一种分析图像的装置。该装置包含一电路,其接收包含多个像素的一图像。该电路创建该图像的一直方图,且分析该直方图以确定该图像的一可接受曝光。该直方图可包含多个区间对应於每一区间的像素数量。举例来说,该等区间可与光强度相关联。该图像和直方图可包含由低动态范围的几个位和/或扩展动态范围的几个位界定的数据。可确定和分析该图像的某些特征和标准以确定该图像是否具有可接受的曝光。如果该图像不可接受,那么可改变一曝光特性且可重复该过程,直到获得一可接受的图像为止。 | ||
申请公布号 | CN101803366B | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
申请号 | CN200880100606.5 | 申请日期 | 2008.07.16 |
申请人 | 坎德拉微系统(S)私人有限公司;郑苍隆 | 发明人 | 杨韵恩;郑苍隆 |
分类号 | H04N5/235(2006.01)I | 主分类号 | H04N5/235(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 朱海煜;王忠忠 |
主权项 | 一种图像产生方法,其包括:由直方图产生单元接收一场景的具有不同曝光的多个低动态范围图像;从所述多个低动态范围图像产生具有由所述多个低动态范围图像的最小曝光值和最大曝光值确定的范围的扩展动态范围图像;以及由所述扩展动态范围图像产生单个或多个具有在所述最小曝光值和最大曝光值之间的曝光值的低动态范围图像。 | ||
地址 | 新加坡新加坡市 |