微影装置及器件制造方法

摘要

本发明揭示一种用于侦测由大体上延伸于一第一方向之至少一线所形成之一经延伸图案之一性质的侦测方法。该经延伸图案形成于一基板上或一基板台上，且较佳地延伸遍及该线之宽度之至少50倍的一长度。该经延伸图案为焦点敏感的。该侦测方法包括在一第一方向上移动该基板台，及沿着该第一方向而量测该经延伸图案之一性质。该性质可为在垂直于该第一方向之一第二方向上该经延伸图案之一物理性质的一结果。在一下一步骤中，可自该经延伸图案之经量测位置导出基板台位置之一校准。

主权项

一种用于量测由延伸于一第一方向之一或多个线所形成之一经延伸图案之一性质的方法，其中每一线包含一或多个特征，该方法包含：将该一或多个特征用于以一感测器在沿着该第一方向之不同位置处量测该经延伸图案之一性质，在不同位置处之该量测包含改变该感测器与用于支撑包含该经延伸图案之一物件之一支撑结构的相对位置；激发(exciting)该支撑结构之一自然(natural)频率振动，或使用一伺服机构(servo)围绕一参考位置而调变该感测器与该支撑结构在该第二方向上之该等相对位置；及其中该量测包含解调变来自该感测器之一信号。