发明名称 |
微间距图案之布线结构 |
摘要 |
一种微间距图案之布线结构包含一连接部、一第一导线部及一第二导线部,该第一导线部具有一第一线段及一第二线段,该第一线段连接该连接部,该第二线段连接该第一线段,该第二导线部具有一第三线段及一第四线段,该第三线段连接该连接部,该第四线段连接该第三线段,且该连接部、该第三线段及该第一线段形成一三面封闭之蚀刻空间,其中该第三线段至该第一线段之间具有一第一间距,该第四线段至该第二线段之间具有一第二间距,该一间距大于该第二间距,以使该蚀刻空间中的金属层可完全移除而避免金属层残留。 |
申请公布号 |
TWM493841 |
申请公布日期 |
2015.01.11 |
申请号 |
TW103212559 |
申请日期 |
2014.07.15 |
申请人 |
颀邦科技股份有限公司 新竹市东区新竹科学工业园区力行五路3号 |
发明人 |
谢永伟;施政宏;王凯亿;黄贺昌;陈柏豪 |
分类号 |
H05K1/00 |
主分类号 |
H05K1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
张启威 高雄市鼓山区龙胜路68号 |
主权项 |
一种微间距图案之布线结构,其包含: 一连接部; 一第一导线部,具有一第一线段及一第二线段,该第一线段连接该连接部,该第二线段连接该第一线段,且该第二线段经由该第一线段电性连接该连接部;以及 一第二导线部,经由该连接部电性连接该第一导线部,且该连接部、该第一导线部及该第二导线部为同一层之金属层,该第二导线部具有一第三线段及一第四线段,该第三线段连接该连接部,且该连接部、该第三线段及该第一线段形成一三面封闭之蚀刻空间,该第四线段连接该第三线段,该第四线段经由该第三线段电性连接该连接部,该第三线段至该第一线段之间具有一第一间距,该第四线段至该第二线段之间具有一第二间距,该一间距大于该第二间距。 |
地址 |
新竹市东区新竹科学工业园区力行五路3号 |