反射型光罩基底与其制造方法

摘要

本发明系藉由于基板上形成侧壁大致直立之凹形状或凸形状之基准点标记，即使于基准点标记上方形成多层反射膜或吸收体膜等，亦可得到相对检查光之充分对比，可高精度识别基准点标记之位置。

主权项

一种反射型光罩基底，其系具有基板、及于前述基板主表面上交互积层有以高折射率材料为主成份之高折射率层与以低折射率材料为主成份之低折射率层之构造之多层反射膜、及于前述多层反射膜上吸收曝光用光之吸收体膜者，且，在前述基板之形成多层反射膜侧之主表面的图案形成区域之外侧区域，形成有侧壁大致直立之凹形状或凸形状之基准点标记，前述基准点标记具有可以电子束扫描检测之深度的凹形状，或可以电子束扫描检测之高度的凸形状，至少除形成有前述基准点标记之部份之主表面上外而形成前述多层反射膜，前述吸收体膜系未形成前述多层反射膜之部份，其系形成于包含形成有前述基准点标记之部份之区域。