发明名称 载置台装置、处理装置及温度控制方法
摘要 本发明系具备:载置台(26),其系于上面载置被处理体W;加热机构(30),其系具有复数的加热器部,该复数的加热器部系设于同心状区划于上述载置台(26)的复数的各加热区域;脚部(28),其系被连接至载置台(26)的中心部,立起的状态下水平支撑上述载置台;温度测定部(38),其系使对应于复数的加热区域内的最内周的加热区域来设置;及电源控制部(42),其系根据温度测定部(38)的测定值来反馈控制最内周的加热器部的温度,且以对最内周的加热器部之安全供给电力比来控制往其他加热器部的供给电力,该对最内周的加热器部之安全供给电力比系以加热区域间的温度差能够形成载置台(26)不会破损的范围之方式决定。
申请公布号 TWI469237 申请公布日期 2015.01.11
申请号 TW098101551 申请日期 2009.01.16
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 荻野贵史;小松智仁
分类号 H01L21/67;G01K7/02 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种载置台装置,其特征系具备:载置台,其系用以载置被处理体;加热机构,其系具有复数的加热器部,该复数的加热器部系设于同心状区划于上述载置台之至少由内侧区域及外侧区域所构成的复数的各加热区域;脚部,其系被连接至上述载置台的中心部,水平支撑上述载置台;温度测定部,其系使对应于上述复数的加热区域内的最内周的加热区域来设置;及电源控制部,其系记忆:预先对于各种的制程温度,以在中央冷的状态下膜厚的面内均一性能够成为最佳的方式进行成膜处理时藉由供给至前述外侧区域及内侧区域的各电力所求取的供给电力比A,及预先在各种的制程温度以前述求取的供给电力比A为基础检讨有关进行成膜处理是否产生前述载置台的破损,藉此求取之未产生破损的境界的供给电力比B,在实际的成膜制程时,根据前述温度测定手段的测定值来反馈控制前述最内周的加热加热器部,且对于前述外侧区域的加热加热器部控制成,当前述供给电力比A大于前述境界的供给电力比B时,将前述境界的电力供给比B设为安全供给电力比,以该电力比来供给电力,当前述供给电力比A为前述境界的供给电力比B以下时,将前述供给电力比A设为安全供给电力比,以该电力比来供给电力。
地址 日本