发明名称 |
基板洗净装置,基板洗净方法,显示装置之制造装置及显示装置之制造方法 |
摘要 |
本发明提供可以减少洗净步骤数,可防止污染粒子对基板之再附着的基板洗净装置及基板洗净方法,以及,显示装置之制造装置及显示装置之制造方法。;相关于实施型态的基板洗净装置(1),具备:搬送基板(W)的搬送部(2)、对藉由该搬送部(2)搬送的基板(W)的被洗净面(S),供给在可以除去氧化膜的液体中以溶存状态及微小气泡的状态具有氧化性气体之洗净液的供给喷嘴(3);该供给喷嘴(3),以使到达被洗净面(S)上的前述微小气泡抑制尺寸改变同时以移动至基板(W)的外缘的流速供给洗净液。 |
申请公布号 |
TWI469198 |
申请公布日期 |
2015.01.11 |
申请号 |
TW101104712 |
申请日期 |
2012.02.14 |
申请人 |
芝浦机械电子装置股份有限公司 日本;夏普股份有限公司 日本 |
发明人 |
寺门秀晃;安藤佳大;西部幸伸;广濑治道;山元良高;田中康一;田中润一 |
分类号 |
H01L21/30;B08B9/28;B08B9/30;B08B3/08;B08B11/04;G02F1/13 |
主分类号 |
H01L21/30 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种基板洗净装置,其特征为具备:搬送基板的搬送部、及对藉由前述搬送部搬送的前述基板的被洗净面,供给在可以除去氧化膜的液体中以溶存状态及微小气泡的状态具有氧化性气体之洗净液的供给喷嘴;前述供给喷嘴,以使到达前述被洗净面上的前述微小气泡抑制尺寸改变同时以移动至前述基板的外缘的流速供给前述洗净液。 |
地址 |
日本 |