发明名称 |
光阻剂及其使用方法 |
摘要 |
提供新颖光阻剂,其较佳系包含下列分开之成分:树脂;光活性成分;以及酚系成分。本发明之较佳光阻剂为可适用于离子植入微影方案者。 |
申请公布号 |
TWI468865 |
申请公布日期 |
2015.01.11 |
申请号 |
TW099143922 |
申请日期 |
2010.12.15 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
保勒尔斯 吉哈德 |
分类号 |
G03F7/039;H01L21/265 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
|
代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
主权项 |
一种提供经离子植入之半导体基板的方法,包含:提供其上涂覆有化学放大型正作用光阻剂组成物之浮雕影像之半导体基板;其中该光阻剂包含树脂、光活性成分及酚系成分,其中该酚系成分包含选自由下列所组成群组中之至少一基团:氰基、烷氧基及醚;以及施加离子至该基板。 |
地址 |
美国 |