均热板及应用该均热板的基片处理设备

摘要

本发明提供一种均热板及应用该均热板的基片处理设备，上述均热板包括中心子均热板和至少一个位于中心子均热板周围的外环子均热板，并且在中心子均热板与该等外环子均热板之间以及在相邻的两个外环子均热板之间均具有隔热部，藉由该隔热部得以有效阻止或降低相邻的子均热板之间的热传导。本发明所提供的均热板及应用该均热板的基片处理设备能够有效补偿基片边缘区域的热损失，从而使该基片各区域的升温速度保持一致。

主权项

一种基片处理设备，其系包括一加热腔室，在所述加热腔室内设置有数个加热灯和与该数个加热灯对应设置的一基片支撑装置，其中在该数个加热灯和该基片支撑装置之间设置有一均热板，该数个加热灯沿所述加热腔室的周缘方向排列，并对应该基片的中心和边缘区域设置为至少两圈，且各圈加热灯的功率能独立控制，以对一基片进行分区加热，其中，该均热板包括一中心子均热板和至少一个位于该中心子均热板周围的外环子均热板，并且在该中心子均热板与该外环子均热板之间以及在相邻的两个外环子均热板之间皆设有一隔热部，且该中心子均热板与该至少一个外环子均热板中分别对应于一圈加热灯，该隔热部用以阻止或降低该等相邻的子均热板之间的热传导。