| 摘要 |
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (10) bereitgestellt. Dabei wird eine optoelektronische Schichtenstruktur mit einer ersten Haftschicht (30), die ein erstes metallisches Material aufweist, über einem Träger (12) ausgebildet. Ein Abdeckkörper (36) wird mit einer zweiten Haftschicht (34), die ein zweites metallisches Material aufweist, bereitgestellt. Auf mindestens eine der beiden Haftschichten (30, 34) wird eine erste Legierung (32) aufgebracht, deren Schmelzpunkt so niedrig ist, dass die erste Legierung (32) flüssig ist. Der Abdeckkörper (36) wird so mit der optoelektronischen Schichtenstruktur gekoppelt, dass beide Haftschichten (30, 34) in direktem körperlichen Kontakt mit der flüssigen ersten Legierung (32) sind. Zumindest ein Teil der ersten Legierung (32) reagiert mit den metallischen Materialien der ersten und der zweiten Haftschicht (34) chemisch, wodurch mindestens eine zweite Legierung (33) gebildet wird, deren Schmelzpunkt höher ist als der Schmelzpunkt der ersten Legierung (32), wobei der Schmelzpunkt der zweiten Legierung (32) so hoch ist, dass die zweite Legierung (33) erstarrt und den Abdeckkörper fest mit der optoelektronischen Schichtenstruktur verbindet. |
