| 摘要 |
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung stellen eine Einrichtung zum Erfassen eines vorausrichtenden Elements an einem Wafer bereit, wobei der Wafer ein vorausrichtendes Element am Waferrand aufweist. Die Einrichtung umfasst eine Sensoranordnung und eine Auswertungseinheit, wobei die Sensoranordnung dazu ausgestaltet ist, aufeinanderfolgende Randabschnitte des Waferrands zu beleuchten, durchgelassene Anteile und reflektierte Anteile der Beleuchtung von den beleuchtenden Randabschnitten mittels eines Beleuchtungssensors zu empfangen und ein erstes und ein zweites Sensorsignal auszugeben, wobei das erste Sensorsignal auf den durchgelassenen Anteilen der Beleuchtung und das zweite Sensorsignal auf den reflektierten Anteilen der Beleuchtung beruht. Die Auswertungseinheit ist dazu ausgestaltet, das erste Sensorsignal auszuwerten und eine erste Positionsinformation bezüglich einer ungefähren Position des vorausrichtenden Elements zu ermitteln, wenn das erste Sensorsignal angibt, dass die durchgelassenen Anteile der Beleuchtung einen vorgegebenen Schwellenwert erreicht haben, wobei die erste Positionsinformation angibt, dass sich das Vorausrichtungselement zumindest teilweise im derzeit ausgewerteten Randabschnitt befindet, und, nachdem die erste Positionsinformation ermittelt wurde, eine zweite Positionsinformation anhand des zweiten Sensorsignals und der ersten Positionsinformation zu ermitteln, wobei die zweite Positionsinformation die feine Position des vorausrichtenden Elements angibt. |
