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发明名称 THE METHOD OF FORMING THIN FILM WITH HIGH DIELECTRIC PERMITTIVITY
摘要
申请公布号 KR20060060613(A) 申请公布日期 2006.06.05
申请号 KR20050115102 申请日期 2005.11.29
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 VARAKIN VLADIMIR NIKOLAEVICH;KABANOV SERGUEY PETROVICH;SIMONOV ALEKSANDR PAVLOVICH
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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