| 发明名称 | 一种新型的正交狭缝光波导结构及制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种新型的正交狭缝光波导结构及制造方法,包括衬底(101)，位于衬底(101)上的单晶硅层(102)及位于单晶硅层(102)上的正交狭缝结构，正交狭缝结构包括：正交结构的狭缝区域(104，105，107)，位于狭缝区域(104，105，107)正交交汇的中心区域(108)及包围狭缝区域(104，105，107)的周围区域(103，106)，中心区域(108)的折射率小于狭缝区域(104，105，107)的折射率，周围区域(103，106)的折射率大于狭缝区域(104，105，107)的折射率。本发明实现光场在狭缝结构中传输时的二维限制，并且通过调整结构尺寸和狭缝区域的材料，可以实现波导的色散与非线性特性的有效调节。 | ||
| 申请公布号 | CN104267463A | 申请公布日期 | 2015.01.07 |
| 申请号 | CN201410579910.X | 申请日期 | 2014.10.23 |
| 申请人 | 重庆大学 | 发明人 | 刘艳;韩根全;颜静 |
| 分类号 | G02B6/122(2006.01)I;G02B6/136(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/122(2006.01)I |
| 代理机构 | 重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 | 代理人 | 郭云 |
| 主权项 | 一种新型的正交狭缝光波导结构，其特征在于，包括衬底(101)，位于所述衬底(101)上的单晶硅层(102)及位于所述单晶硅层(102)上的正交狭缝结构，所述正交狭缝结构包括：正交结构的狭缝区域(104，105，107)，位于所述狭缝区域(104，105，107)正交交汇处的中心区域(108)及包围所述狭缝区域(104，105，107)的周围区域(103，106)，所述中心区域(108)的折射率小于所述狭缝区域(104，105，107)的折射率，所述周围区域(103，106)的折射率大于所述狭缝区域(104，105，107)的折射率。 | ||
| 地址 | 400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号 | ||