发明名称 一种新型电解槽离子膜集成装置
摘要 本实用新型公开了一种新型电解槽离子膜集成装置,包括:金属框架,其为框架结构,中部为挖空区域,设有固定螺孔,其四周固定金属网;金属网,其固定在金属框中,四周经过涂膜处理,并开有通孔;离子膜,其放置在金属网之间进行固定;金属压板,其上部开有通孔,和金属框架上的螺孔位置相对应,通过螺栓,将其固定在金属框架上;其中,金属框架、金属压板和金属网表面进行涂层处理。本实用新型中通过使用一个金属框架,将金属网和离子膜通过金属压板固定起来,形成一个整体装置,便于离子膜更换。同时,本实用新型通过金属网将离子膜固定在金属网间,对离子膜起支持作用,减少使用过程中离子膜的损害。
申请公布号 CN204080121U 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201420518313.1 申请日期 2014.09.10
申请人 中国化学工程第六建设有限公司 发明人 张双平;赵生光;刘振
分类号 C25B9/10(2006.01)I;C25B15/00(2006.01)I 主分类号 C25B9/10(2006.01)I
代理机构 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人 史霞
主权项 一种新型电解槽离子膜集成装置,其特征在于,包括:金属框架,其为框架结构,中部为挖空区域,设有固定螺孔,其四周固定金属网;金属网,其固定在金属框中,四周经过涂膜处理,并开有通孔;离子膜,其放置在金属网之间进行固定;金属压板,其上部开有通孔,和金属框架上的螺孔位置相对应,通过螺栓,将其固定在金属框架上;其中,金属框架和金属网表面进行涂层处理。
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