| 发明名称 | 转换透镜及其制备方法、二维-三维显示基板及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明的实施例提供了一种转换透镜及其制备方法、二维-三维显示面基板及显示装置及其制备方法，涉及显示领域，能够降低驱动功率。所述转换透镜用于对显示图像进行二维-三维转换，包括：至少一金属电极；所述金属电极设置为：所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。本发明可用于显示设备中。 | ||
| 申请公布号 | CN102981343B | 申请公布日期 | 2015.01.07 |
| 申请号 | CN201210475857.X | 申请日期 | 2012.11.21 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 姚星 |
| 分类号 | G02F1/29(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02B27/22(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/29(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种转换透镜，用于对显示图像进行二维‑三维转换，其特征在于，所述转换透镜包括：至少一金属电极；所述金属电极设置为：所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应，以在不影响所述显示基板开口率的情况下降低所述转换透镜的总电阻值。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||