发明名称 一种实现单层石墨烯双面非对称修饰的方法
摘要 本发明公开了一种实现单层石墨烯非对称共价修饰的方法。该方法包括如下步骤:1)在衬底上制备石墨烯;2)在石墨烯表面进行共价化学修饰,得到单面修饰的石墨烯;3)将PMMA溶液旋涂至单面修饰的石墨烯表面,烘烤PMMA形成聚合物薄膜;然后在氢氟酸水溶液中刻蚀衬底,使石墨烯与衬底分离;4)以PMMA薄膜作为保护性基底,对单面修饰后石墨烯的另一侧进行与步骤2)方法不同的共价化学修饰,实现石墨烯的双面非对称修饰;5)将双面非对称修饰的石墨烯转移至另一衬底表面,除去PMMA薄膜,得到双面非对称修饰的石墨烯。本方法以PMMA薄膜作为操纵媒介,首次实现了单层石墨烯双面非对称共价修饰,适用于任何石墨烯共价修饰方法。
申请公布号 CN102849732B 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201210348152.1 申请日期 2012.09.18
申请人 北京大学 发明人 刘忠范;张黎明;于静雯;彭海琳;谢芹
分类号 C01B31/04(2006.01)I 主分类号 C01B31/04(2006.01)I
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人 关畅
主权项 一种实现石墨烯双面非对称共价修饰的方法,包括如下步骤:1)在衬底上制备石墨烯;2)在石墨烯表面进行共价化学修饰,得到单面修饰的石墨烯;3)将聚甲基丙烯酸甲酯溶液旋涂至步骤2)得到的单面修饰的石墨烯表面,烘烤所述聚甲基丙烯酸甲酯使之固化形成聚甲基丙烯酸甲酯薄膜;然后在氢氟酸水溶液中刻蚀衬底,使石墨烯与衬底分离;4)以聚甲基丙烯酸甲酯薄膜作为保护性基底,继续对单面修饰后石墨烯的另一侧进行与步骤2)中共价化学修饰方法不同的二次共价化学修饰,实现石墨烯的双面非对称共价修饰;5)将双面非对称共价修饰的石墨烯转移至另一衬底表面,除去聚甲基丙烯酸甲酯薄膜,得到双面非对称共价修饰的石墨烯;步骤1)中所述衬底为Si和SiO<sub>2</sub>组成的复合衬底,其中,SiO<sub>2</sub>衬底层与所述石墨烯片层接触;所述石墨烯为单层石墨烯;步骤3)中所述聚甲基丙烯酸甲酯的重均分子量为950K;所述聚甲基丙烯酸甲酯溶液的质量分数为4%,旋涂速率为1000~3500r/min,时间为45~60s;所述烘烤的温度为170℃,时间为5~15min;步骤3)中所述氢氟酸溶液的质量分数为2%,刻蚀时间为5~15min;步骤5)中将双面非对称共价修饰的石墨烯转移至Si/SiO<sub>2</sub>衬底表面,石墨烯与SiO<sub>2</sub>衬底层接触;步骤5)中所述聚甲基丙烯酸甲酯薄膜采用丙酮蒸汽除去。
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