发明名称 内部气相沉积工艺
摘要 本发明涉及一种内部气相沉积工艺。本发明涉及使用内部气相沉积工艺制造光纤用初级预制品的方法,所述方法包括以下步骤:i)设置具有供给侧和排出侧的中空玻璃基管,ii)由加热炉包围至少部分的中空玻璃基管,iii)将掺杂或未掺杂的玻璃形成气体经由中空玻璃基管的供给侧供给至所述中空玻璃基管的内部,iv)创建反应区,在所述反应区中创建条件以使玻璃沉积发生在中空玻璃基管的内部,和v)使反应区在位于中空玻璃基管的供给侧附近的换向点和位于中空玻璃基管的排出侧附近的换向点之间沿着中空玻璃基管的长度往复移动,其中,在至少部分步骤v)期间,当反应区沿排出侧的方向移动时,气体流包含第一浓度的含氟化合物。
申请公布号 CN102219371B 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201110092907.1 申请日期 2011.04.13
申请人 德拉克通信科技公司 发明人 I·米莉瑟维克;M·J·N·范·斯特劳伦;J·A·哈特苏克;E·阿尔迪
分类号 C03B37/018(2006.01)I;C03B37/025(2006.01)I 主分类号 C03B37/018(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种光纤用初级预制品的制造方法,其使用内部气相沉积工艺,所述方法包括以下步骤:i)设置具有供给侧和排出侧的中空玻璃基管,ii)由加热炉包围至少部分的所述中空玻璃基管,iii)将掺杂或未掺杂的玻璃形成气体经由所述中空玻璃基管的供给侧供给至所述中空玻璃基管的内部,iv)创建反应区,在所述反应区中创建条件以使玻璃沉积发生在所述中空玻璃基管的内部,和v)使所述反应区在位于所述中空玻璃基管的供给侧附近的换向点和位于所述中空玻璃基管的排出侧附近的换向点之间沿着所述中空玻璃基管的长度往复移动,其中,在至少部分步骤v)期间,当所述反应区沿所述排出侧的方向移动时,气体流包含第一浓度的含氟化合物,其特征在于,所述反应区在沿所述排出侧的方向移动后其沿所述供给侧的方向移动时,所述气体流包含第二浓度的含氟化合物,其中在至少部分步骤v)期间,所述含氟化合物的第一浓度不同于所述含氟化合物的第二浓度,在所述沉积过程中和所述含氟化合物随反应区的移动方向而改变浓度的过程中,所述基管内部上的玻璃层沉积持续地进行。
地址 荷兰阿姆斯特丹