改善高透光率掩膜板套刻精度稳定性的方法

摘要

本发明公开了一种改善高透光率掩膜板套刻精度稳定性的方法，该方法对高透光率正性光刻胶掩膜板透光区域进行反转，得到透光区域与所述正性光刻胶掩膜板透光区域相反的低透光率掩膜板，并以所述反转后得到的低透光率掩膜板为曝光掩膜板，采用负性光刻胶对晶圆片进行曝光显影。从而有效地减少了曝光过程中透镜受热的能量，降低了在连续曝光晶圆片之后透镜受热膨胀的程度，因而使得套刻精度保持稳定，提高了晶圆片的良品率以及工艺生产效率。

主权项

一种改善高透光率掩膜板套刻精度稳定性的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：对高透光率正性光刻胶掩膜板透光区域进行反转，得到透光区域与所述高透光率正性光刻胶掩膜板透光区域相反的低透光率掩膜板；以所述反转后得到的低透光率掩膜板为曝光掩膜板，采用负性光刻胶对晶圆片进行曝光显影。