调整台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备

摘要

本发明公开了一种调节台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备。还公开了一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法。所述方法包括步骤：将台的移动方案分解为多个分立移动；通过确定浸没流体供给系统是否通过从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置而确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险；和调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动更早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度，和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。

主权项

一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法，所述方法包括步骤：将台的移动方案分解成多个分立移动；其特征在于，所述方法还包括：对于多个分立移动的特定分立移动，确定从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体的位置；通过利用所确定的位置，对于所述特定分立移动，通过确定从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置是否在浸没流体供给系统下面行进而确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险；和调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动更早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度，和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。