| 发明名称 | 处理诸如晶圆的靶材的光刻系统和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种操作用以处理夹盘(13)上的靶材(23)的靶材处理系统的方法，该方法包括：在该夹盘(13)上提供至少第一夹盘位置标记(27)和第二夹盘位置标记(28)；提供对准感测系统(17)，其被布置成用以检测这些第一和第二夹盘位置标记(27，28)，对准感测系统(17)包括至少第一对准传感器(61)和第二对准传感器(62)；以对准感测系统(17)的至少一个测量值为基础将该夹盘(13)移动至第一位置；以及测量和夹盘的第一位置有关的至少一个值。 | ||
| 申请公布号 | CN104272194A | 申请公布日期 | 2015.01.07 |
| 申请号 | CN201380024169.4 | 申请日期 | 2013.03.08 |
| 申请人 | 迈普尔平版印刷IP有限公司 | 发明人 | N.弗奇尔 |
| 分类号 | G03F9/00(2006.01)I;H01J37/304(2006.01)I | 主分类号 | G03F9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 高巍 |
| 主权项 | 一种操作用于处理夹盘(13)上的靶材(23)的靶材处理系统的方法，该方法包括：在该夹盘(13)上提供至少第一夹盘位置标记(27)和第二夹盘位置标记(28)；提供对准感测系统(17)，其被设置成用于检测所述第一和第二夹盘位置标记(27，28)，所述对准感测系统(17)至少包括第一对准传感器(61)和第二对准传感器(62)；基于所述对准感测系统(17)的至少一个测量值将所述夹盘(13)移至第一位置；以及测量与所述夹盘的所述第一位置有关的至少一个值。 | ||
| 地址 | 荷兰代夫特 | ||