| 发明名称 | 光刻设备及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括支撑台(16)以及包括传感器部分(13)和参考部分(12、14)的测量系统(12-14)，所述测量系统被配置为通过使用所述传感器部分(13)与所述参考部分(12、14)相互作用来确定所述支撑台(16)相对于参考框架(6、8、10)的位置和/或方向或所述支撑台上安装的部件相对于参考框架(6、8、10)的位置和/或方向，其中：所述参考框架(6、8、10)包括N个子框架(6、8)，所述N个子框架耦接在一起以便针对低于第一参考频率的振动主要表现为单个刚性体，并且针对高于第二参考频率的振动主要表现为N体系统，其中N是大于1的整数。 | ||
| 申请公布号 | CN104272191A | 申请公布日期 | 2015.01.07 |
| 申请号 | CN201380022023.6 | 申请日期 | 2013.03.18 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | H·巴特勒;M·范德威吉斯特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张启程 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括：支撑台；和包括传感器部分和参考部分的测量系统，所述测量系统被配置为通过使用所述传感器部分与所述参考部分相互作用来确定所述支撑台相对于参考框架的位置和/或方向、或所述支撑台上安装的部件相对于参考框架的位置和/或方向，其中：所述参考框架包括N个子框架，所述N个子框架耦接在一起以便针对低于第一参考频率的振动主要表现为单个刚性体，并且针对高于第二参考频率的振动主要表现为N体系统，其中N是大于1的整数。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||