发明名称 |
光掩模与基材的对位方法以及布线电路板的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种光掩模与基材的对位方法及布线电路板的制造方法。曝光系统具有曝光机及图像处理装置。曝光机包括多个摄像机。摄像机构成为可选择地设定成全扫描模式及部分扫描模式。摄像机在全扫描模式下传输所得到的全部图像数据,在部分扫描模式下从所得到的图像数据中提取一部分进行传输。图像处理装置并行进行使用了从摄像机传输来的图像数据的处理和使用了从摄像机传输来的图像数据的处理。 |
申请公布号 |
CN102236273B |
申请公布日期 |
2015.01.07 |
申请号 |
CN201110102554.9 |
申请日期 |
2011.04.21 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
村上巧丞;有马明;服部智洋;宫崎修平 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种光掩模与基材的对位方法,是在对基材进行曝光处理时的光掩模与上述基材的对位方法,上述光掩模具有多个第1对准标记,上述基材具有与上述多个第1对准标记相对应的多个第2对准标记,该光掩模与基材的对位方法包括如下工序:利用多个摄像装置获取分别含有上述多个第1对准标记的多个第1图像;将表现上述多个第1图像的多个第1图像数据从上述多个摄像装置传输到数据处理装置;利用上述数据处理装置,基于上述多个第1图像数据检测上述第1对准标记的位置,并且在上述多个摄像装置的摄像范围内设定含有上述第1对准标记的部分区域;利用上述多个摄像装置获取分别含有上述多个第2对准标记的多个第2图像;将分别表现上述多个第2图像的多个第2图像数据从上述多个摄像装置传输到数据处理装置;基于上述多个第2图像数据,通过上述数据处理装置的并行数据处理,分别计算上述多个第1对准标记与上述多个第2对准标记的位置关系,作为第1位置关系;基于通过上述数据处理装置计算出的第1位置关系,以使上述多个第1对准标记的位置与上述多个第2对准标记的位置分别相一致的方式使上述基材相对于上述光掩模进行相对移动;在上述基材与上述光掩模相对移动之后,利用上述多个摄像装置获取分别含有上述多个第2对准标记的多个第3图像;将上述多个第3图像中的上述设定的部分区域的图像数据分别作为第3图像数据从上述多个摄像装置传输到上述数据处理装置;基于上述多个第3图像数据,通过上述数据处理装置的并行数据处理,分别计算上述多个第1对准标记与上述多个第2对准标记的位置关系,作为第2位置关系;基于通过上述数据处理装置得到的第2位置关系,判断上述多个第1对准标记的位置与上述多个第2对准标记的位置是否分别相一致。 |
地址 |
日本大阪府 |