蚀刻液及导体图案的形成方法

摘要

本发明提供即使连续或反复使用，也可以一边维持图案的顶部形状一边进行蚀刻的铜的蚀刻液，和使用其的导体图案的形成方法。本发明的蚀刻液的特征为，是含有铜离子源、酸及水的铜蚀刻液，其中，含有唑和芳香族化合物，所述唑仅具有氮原子作为存在于环内的杂原子，所述芳香族化合物选自酚类和芳香族胺类中的至少一种。另外，本发明的导体图案的形成方法的特征为，使用上述本发明的蚀刻液，将电绝缘件（1）上铜层的未被抗蚀剂（3）覆盖的部分进行蚀刻，形成导体图案（2）。

主权项

蚀刻液，含有铜离子源、酸和水，还含有仅以氮原子作为环内杂原子的唑，以及酚类，所述酚类的浓度范围为0.01～20g/L，所述铜离子源以铜离子浓度计为14～155g/L，所述酸为7～180g/L，所述唑为0.1～50 g/L。