发明名称 一种激光器及其制作方法
摘要 本发明提出了一种激光器及其制作方法。所述激光器包括:N型砷化镓衬底;N型覆盖层,制作N型砷化镓衬底正面;第一超晶格层,制作在N型覆盖层上;N型波导层,制作在超晶格层上;有源层,制作在N型波导层上;P型波导层,制作在有源层上;第二超晶格层,制作在P型波导层上;P型覆盖层,制作在超晶格层上;P型欧姆接触层,制作在P型覆盖层上;P型欧姆电极,制作在P型欧姆接触层上;N型欧姆电极,制作在N型砷化镓衬底(10)背面。本发明中本发明利用超晶格层不仅能提供低折射率势垒,而且具有高的载流子输运的能力,使激光器同时具有低阈值电流、低垂直发散角以及高的载流子输运的能力。
申请公布号 CN104269740A 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201410490395.8 申请日期 2014.09.23
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 李翔;赵德刚;朱建军;陈平;刘宗顺;江德生
分类号 H01S5/30(2006.01)I;H01S5/323(2006.01)I 主分类号 H01S5/30(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 宋焰琴
主权项 一种激光器,其特征在于,包括:N型砷化镓衬底(10);N型覆盖层(11),该N型覆盖层(11)制作N型砷化镓衬底(10)正面;第一超晶格层12,该超晶格层(12)制作在N型覆盖层(11)上;N型波导层(13),该N型波导层(13)制作在超晶格层(12)上;有源层(14),该有源层(14)制作在N型波导层(13)上;P型波导层(15),该P型波导层(15)制作在有源层(14)上;第二超晶格层(16),该超晶格层(16)制作在P型波导层(15)上;P型覆盖层(17),该P型覆盖层(17)制作在超晶格层(16)上;P型欧姆接触层(18),该P型欧姆接触层(18)制作在P型覆盖层(17)上;P型欧姆电极(19),该P型欧姆电极(19)制作在P型欧姆接触层(18)上;N型欧姆电极(20),该N型欧姆电极(20)制作在N型砷化镓衬底(10)背面。
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