发明名称 | 一种微机械结构牺牲层及微机械结构制作方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种微机械结构牺牲层及微机械结构制作方法。采用低熔点合金作为材料制作微机械结构牺牲层;所述低熔点合金是指合金熔点在300摄氏度以下的合金材料。能够使微机械结构牺牲层达到数百微米,可快速有效的去除,并与有机物兼容。基于该牺牲层工艺的微机械结构制作方法操作简单,工艺周期相对于常用薄膜沉积方法缩短4倍。 | ||
申请公布号 | CN104261346A | 申请公布日期 | 2015.01.07 |
申请号 | CN201410494077.9 | 申请日期 | 2014.09.25 |
申请人 | 中国电子科技集团公司第二十九研究所 | 发明人 | 彭挺;林玉敏;刘志辉 |
分类号 | B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人 | 钱成岑 |
主权项 | 一种微机械结构牺牲层制作方法,其特征在于:采用低熔点合金作为材料制作牺牲层;所述低熔点合金是指合金熔点在300摄氏度以下的合金材料。 | ||
地址 | 610036 四川省成都市金牛区营康西路496号 |