发明名称 一种微机械结构牺牲层及微机械结构制作方法
摘要 本发明提供了一种微机械结构牺牲层及微机械结构制作方法。采用低熔点合金作为材料制作微机械结构牺牲层;所述低熔点合金是指合金熔点在300摄氏度以下的合金材料。能够使微机械结构牺牲层达到数百微米,可快速有效的去除,并与有机物兼容。基于该牺牲层工艺的微机械结构制作方法操作简单,工艺周期相对于常用薄膜沉积方法缩短4倍。
申请公布号 CN104261346A 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201410494077.9 申请日期 2014.09.25
申请人 中国电子科技集团公司第二十九研究所 发明人 彭挺;林玉敏;刘志辉
分类号 B81C1/00(2006.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人 钱成岑
主权项 一种微机械结构牺牲层制作方法,其特征在于:采用低熔点合金作为材料制作牺牲层;所述低熔点合金是指合金熔点在300摄氏度以下的合金材料。 
地址 610036 四川省成都市金牛区营康西路496号
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