发明名称 摆块整形结构
摘要 本实用新型公开了一种摆块整形结构,包括上模组件、下模组件、两固定块、两整形摆块和两下模挡块;待整形的工件固定在下模组件上;两固定块分别固定在上模组件上,整形摆块的顶端利用中心轴固定在固定块上;两整形摆块分别位于待整形工件的两侧,整形摆块的底端的一侧抵靠在待整形工件的侧面上,另一侧设有第一斜面;两下模挡块固定在下模组件上,两下模挡块分别位于待整形工件的两侧,下模挡块上设有在整形摆块下降时与第一斜面配合对整形摆块产生侧向压力的第二斜面。本实用新型的固定块、两整形摆块和两下模挡块占用的空间小,因此模具可做的相对较小,可减小生产和使用成本;整形摆块与工件的接触面积大,对整形工件的压力均匀。
申请公布号 CN204074910U 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201420339074.3 申请日期 2014.06.24
申请人 深圳市科本精密模具有限公司 发明人 蒋人权
分类号 B21D37/10(2006.01)I 主分类号 B21D37/10(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种摆块整形结构,其特征在于,包括上模组件、下模组件、两固定块、两整形摆块和两下模挡块;待整形的工件固定在下模组件上;所述两固定块分别固定在上模组件上,所述整形摆块的顶端利用中心轴固定在固定块上,整形摆块可在一定角度内绕中心轴转动;两整形摆块分别位于待整形工件的两侧,所述整形摆块的底端的一侧抵靠在待整形工件的侧面上,另一侧设有第一斜面;所述两下模挡块固定在下模组件上,两下模挡块分别位于待整形工件的两侧,下模挡块上设有在整形摆块下降时与第一斜面配合对整形摆块产生侧向压力的第二斜面。
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