发明名称 一种薄膜衰减片的制作方法
摘要 本发明提出了一种薄膜衰减片的制作方法,包括以下步骤:采用真空溅射的方法实现介质基材表面金属化;采用光刻工艺形成衰减片图形;电镀高纯软金,加厚导体电路;通过加热的办法对整片衰减片电路进行热氧化调阻;使用光刻胶在衰减片的抗击打部位定义出电镀图形区域;在定义图形区域电镀金钴合金;使用砂轮划切的方法分割成独立的衰减片图形。本发明薄膜衰减片的制作方法,将电镀软金与电镀硬金相结合,大幅度提高了其抗击打能力;这种方法可靠性好,加工效率高,利于批量生产,值得在生产中推广。
申请公布号 CN104269597A 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201410529013.8 申请日期 2014.09.25
申请人 中国电子科技集团公司第四十一研究所 发明人 马子腾;王进;许延峰;朱云东
分类号 H01P1/22(2006.01)I 主分类号 H01P1/22(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种薄膜衰减片的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤(101),采用真空溅射的方法实现介质基材表面金属化;步骤(102),采用光刻工艺形成衰减片图形;步骤(103),电镀高纯软金,加厚导体电路;步骤(104),通过加热的办法对整片衰减片电路进行热氧化调阻;步骤(105),使用光刻胶在衰减片的抗击打部位定义出电镀图形区域;步骤(106),在定义图形区域电镀金钴合金;步骤(107),使用砂轮划切的方法分割成独立的衰减片图形。
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