发明名称 |
一种薄膜衰减片的制作方法 |
摘要 |
本发明提出了一种薄膜衰减片的制作方法,包括以下步骤:采用真空溅射的方法实现介质基材表面金属化;采用光刻工艺形成衰减片图形;电镀高纯软金,加厚导体电路;通过加热的办法对整片衰减片电路进行热氧化调阻;使用光刻胶在衰减片的抗击打部位定义出电镀图形区域;在定义图形区域电镀金钴合金;使用砂轮划切的方法分割成独立的衰减片图形。本发明薄膜衰减片的制作方法,将电镀软金与电镀硬金相结合,大幅度提高了其抗击打能力;这种方法可靠性好,加工效率高,利于批量生产,值得在生产中推广。 |
申请公布号 |
CN104269597A |
申请公布日期 |
2015.01.07 |
申请号 |
CN201410529013.8 |
申请日期 |
2014.09.25 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
发明人 |
马子腾;王进;许延峰;朱云东 |
分类号 |
H01P1/22(2006.01)I |
主分类号 |
H01P1/22(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种薄膜衰减片的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤(101),采用真空溅射的方法实现介质基材表面金属化;步骤(102),采用光刻工艺形成衰减片图形;步骤(103),电镀高纯软金,加厚导体电路;步骤(104),通过加热的办法对整片衰减片电路进行热氧化调阻;步骤(105),使用光刻胶在衰减片的抗击打部位定义出电镀图形区域;步骤(106),在定义图形区域电镀金钴合金;步骤(107),使用砂轮划切的方法分割成独立的衰减片图形。 |
地址 |
266555 山东省青岛市经济技术开发区香江路98号 |