显示器件的阻隔材料

摘要

本文中描述的是包含一个或多个含硅层和金属氧化物层的装置。本文中还描述了形成一个或多个含硅层以用作，例如，显示器装置中的钝化层的方法。在一个具体的方面，所述装置包含透明金属氧化物层、氧化硅层和氮化硅层。在这个或其他方面，所述装置在350℃或更低的温度下沉积。本文中描述的含硅层包括一种或多种以下性质：密度约1.9g/cm³或更高；氢含量约4x10²²cm^-3或更低，通过紫外-可见光分光光度计测量的在400-700nm下的透光度为约90％或更高。

主权项

装置，其包含：包含金属氧化物层的衬底；和沉积在至少一部分所述金属氧化物上的氮化硅层，其中所述氮化硅层的密度为2.4g/cm³或更高和氢含量为4x10²²cm^‑3或更低。