含有具有羟基之芳基磺酸盐的光阻下层膜形成组成物;RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING ARYL SULFONATE HAVING HYDROXY GROUP

摘要

本发明之课题为，提供焙烧过程中减少由光阻下层膜中所发生之昇华物量，且抑制老化之具有较高保存安定性的光阻下层膜形成组成物。解决方法为，如请求项1之含有下述式(1)：(式中，Ar表示苯环或苯环缩合所得之芳香族烃环；m1为0至(2+2n)之整数，m2及m3各自为1至(3+2n)之整数，(m1+m2+m3)表示2至(4+2n)之整数。又，n表示苯环之数或芳香族烃环中缩合之苯环之数，为1至6之整数；X + 表示NH4 + 、1级铵离子、2级铵离子、3级铵离子、4级铵离子、鋶离子、或碘鎓阳离子)所表示的具有羟基之芳基磺酸盐化合物的光阻下层膜形成组成物。