带电粒子线照射装置、带电粒子线照射方法及带电粒子线照射程式

摘要

本发明的目的在于提供一种带电粒子线照射装置、带电粒子线照射方法及带电粒子线照射程式，其高精确度地控制带电粒子线的照射量。本发明的带电粒子线照射装置(100)具备：扫描磁铁(3)，于被照射物(52)上扫描带电粒子线(R)；照射量设定部(10)，设定带电粒子线(R)于藉由扫描磁铁(3)于被照射物上扫描之带电粒子线(R)的扫描线(L)上各目标扫描位置上的照射量；及扫描速度设定部(11)，根据被设定之照射量，设定带电粒子线于各个目标扫描位置上的目标扫描速度。

主权项

一种带电粒子线照射装置，其系对被照射物照射带电粒子线之装置，其特征为，具备：扫描手段，扫描被照射至前述被照射物之前述带电粒子线；照射量设定手段，设定在扫描线上之复数之目标扫描位置之个别目标扫描位置之前述带电粒子线之照射量，该扫描线系藉由前述扫描手段于前述被照射物上扫描之前述带电粒子线的扫描线；扫描速度设定手段，根据藉由前述照射量设定手段设定之照射量，设定前述带电粒子线于各个前述目标扫描位置上的目标扫描速度；控制手段，系控制前述扫描手段，使前述带电粒子线依照前述目标扫描位置及前述目标扫描速度，于前述被扫描物上进行扫描；及射束强度检测手段，其系检测前述带电粒子线的射束强度，当由前述射束强度检测手段检测之前述射束强度向预定的误差范围外变动时，前述控制手段以相互抵消该变动的方式调整藉由前述扫描手段之扫描速度。